杭州朗为科技有限公司成立于2015年，总部坐落在美丽的西子湖畔—杭州，以打造真空设备中国“芯”为企业愿景，以让核心部件选配更简单，更丰富为使命，专注从事磁控溅射阴极和离子源产品的研发、生产、销售的高科技企业。公司主要产品有：平面圆形磁控溅射阴极，平面条形磁控溅射阴极，圆柱旋转磁控溅射阴极，阳极层离子源，考夫曼离子源，射频离子源等。产品主要应用于大面积玻璃镀膜领域：low-e 玻璃，阳光控制玻璃，汽车玻璃，太阳能电池； 半导体，电子镀膜领域：MEMS，电子元器件，LED，LCD等；磁盘，硬盘镀膜领域：铁磁性膜；装饰镀膜领域：表壳、手机壳、笔记本外壳，和饰品等；精密光学领域：手机摄像头，光通讯模块，激光器等，此外，在工具、模具、刀具镀膜等领域也有着广泛的应用。 公司拥有一支专业、稳定、年轻、经验丰富的研发队伍，聚集了国内两大真空院校--东北大学及合肥工业大学的高才生，通过良好的人才激励机制开展技术创新，公司成立初期..

主要市场:电子/显示，装饰镀， 工具镀，EMI导电金属膜，研发
主营产品或服务:公司主要经营磁控溅射靶,磁控溅射阴极,平面靶,美国ASI磁控阴极,美国KRI离子源, 磁控溅射阴极：圆形阴极，条形阴极，旋转归较 高利用率，高可靠性 离子源：考夫曼离子源，射频离子源，阳极层离子源